摘要:通過激光照射可以在金屬氧化物半導體(MOS)結(jié)構(gòu)中實現(xiàn)電阻變化,使用二氧化碳激光照射多壁碳納米管二氧化硅硅(MWNTs-SiO2-Si)結(jié)構(gòu),觀察電阻隨時間變化的瞬態(tài)響應.研究表明對硅片施加正偏壓,可以增大器件的電阻值,對硅片施加負偏壓,可以減小器件的電阻值.二氧化碳激光的功率越小,電阻達到極值所需的時間越長;反之,二氧化碳激光功率越大,電阻達到極值所需的時間越短.
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主管單位:上海市教育委員會;主辦單位:上海工程技術(shù)大學