摘要：為了給實際的納米光刻對準工作提供理論研究基礎，主要分析推導了莫爾條紋復振幅以及光強的空間分布規(guī)律。在理論分析的基礎上通過仿真，定量地確定了莫爾條紋復振幅分布的近似數(shù)學模型。分析表明，當對準光路通過掩模硅片上的兩個對準標記受到兩次光柵的調(diào)制并發(fā)生復雜的衍射和干涉時，將形成有規(guī)律的、呈一定周期分布的莫爾條紋。并且當兩光柵周期相近時，莫爾條紋將表現(xiàn)為一個與兩光柵周期相關的空間拍信號。在近似模型中該拍信號主要由兩光柵基頻的乘積調(diào)制與振幅調(diào)制信號組成。兩調(diào)制信號的群峰值周期相等、與拍信號的群峰值周期一致，并且該周期相對于兩光柵周期被大幅度放大，因而具有很好的位移探測靈敏度，有利于納米級對準的實際應用。