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激光化學(xué)氣相沉積法在TFT-LCD電路缺陷維修中的應(yīng)用

張偉; 陳小英; 馬永生; 付婉霞; 王磊; 周賀; 徐智俊; 王博; 阮毅松 福州京東方光電科技有限公司; 福建福州350300; 北京京東方傳感技術(shù)有限公司; 北京100176
  • 激光化學(xué)氣相沉積法
  • 缺陷維修
  • 電阻率

摘要:為了維修TFT-LCD電路缺陷,利用激光化學(xué)氣相沉積法(LCVD)沉積鎢薄膜,討論成膜參數(shù)對(duì)基底損傷、鎢薄膜電阻率的影響。在空氣氛圍下,波長為351nm的脈沖激光誘導(dǎo)W(CO)6裂解成膜,通過聚焦離子束-掃描電子顯微鏡(FIB-SEM)觀察薄膜橫截面研究成膜參數(shù)對(duì)基底損傷的影響,再用高精度的電參數(shù)測(cè)試儀(EPM)測(cè)試不同參數(shù)下鎢薄膜電阻。控制變量法表明,激光功率或激光束光斑尺寸越大,薄膜基底損傷越大,但電阻率越小,且不沉積薄膜時(shí)高功率激光輻射也不會(huì)造成基底損傷;激光輻射速度越大,基底損傷越小,但電阻率越大。通過平衡工藝參數(shù),得到了電阻率為0.96Ω/μm、對(duì)基底無損傷的鎢薄膜,成分分析表明此時(shí)W(CO)6已經(jīng)完全裂解。

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液晶與顯示

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